Russian
Summary:Настоящая коллективная монография содержит теоретические и экспериментальные результаты по методам выращивания монокристаллов и эпитаксиальных пленокSiC, а также карбидкремниевой керамики. Опираясь на собственные исследования и литературные данные, на конкретных примерах авторы рассматривают дефектообразование вSiC, роль дислокаций в процессах деградацииp-n переходов и диодов[⇒] Шоттки. Значительное место в монографии уделено фрагментам технологии карбидкремниевых приборных структур: окислениюSiC и формированию омических и барьерных контактов. Представлены данные о структуре и параметрах карбидкремниевых микроволновых диодов, а также рассмотрены различные области примененияSiC и карбидкремниевой керамики. Reading audience:Монография рассчитана на широкий круг специалистов в области физики и технологии полупроводниковых материалов и приборов, а также студентов и аспирантов соответствующих специальностей.